光刻机 相关话题

（原标题：卖4亿的光刻机，DRAM大厂推迟引进） 若是您但愿不错经常碰头，迎接标星保藏哦~ 开始：实质来自 Source：编译自thebell 三星电子和 SK 海力士将推迟引进 ASML 用于其 DRAM 曝光工艺的“高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV)”招引。这是由于天文数字般的招引价钱和 DRAM 架构行将发生的变化。 三星电子和SK海力士谋划在2030年后量产3D DRAM，3D DRAM曝光工艺谋划取舍氟化氩（ArF）招引，而非EUV招引。因此，High NA EUV招引的引入例

（原标题：下一代光刻机，台积电不雅望） 要是您但愿不错不息碰头，迎接标星保藏哦~ 开头：本色编译自wccftech ，谢谢 。 在半导体新元素的接纳方面，台积电多年来一直是前驱，并通常引颈潮水。但咫尺，该公司似乎将烧毁在其 A14 工艺中使用高数值孔径 EUV 光刻设立，而是接纳更传统的 0.33 数值孔径 EUV 技巧。这一音信是在数值孔径技巧辩论会上清楚的，台积电高档副总裁Kevin Zhang在会上书记了这一表现。由此不错详情地说，英特尔代工场和几家 DRAM 制造商咫尺在“技巧”上比台